Optoelektronik auf dem Vormarsch Neuer Halbleiter für die nächste Technologiegeneration

Visualisierung einer Quantentopfstruktur, wie sie erstmals mit der neu entwickelten Halbleiterlegierung CSiGeSn realisiert wurde – ein zentraler Schritt auf dem Weg zu skalierbaren photonischen und quantentechnischen Bauelementen.

Bild: publish-industry, ChatGPT
16.07.2025

Forschende des Forschungszentrums Jülich und des Leibniz-Instituts IHP haben eine bislang einzigartige, stabile Legierung aus Kohlenstoff, Silizium, Germanium und Zinn entwickelt. Die CMOS-kompatible Verbindung ermöglicht neuartige Anwendungen in den Bereichen Photonik, Thermoelektrik und Quantentechnologie. Mit dem erfolgreichen Einsatz in LEDs und Lasern haben die Partner einen wichtigen Schritt in Richtung skalierbarer Optoelektronik auf Siliziumbasis gemacht.

Forschende des Forschungszentrums Jülich und des Leibniz-Instituts für innovative Mikroelektronik (IHP) haben ein Material entwickelt, das es bislang nicht gab: eine stabile Legierung aus Kohlenstoff, Silizium, Germanium und Zinn. Die neue Verbindung, abgekürzt CSiGeSn, eröffnet neue Möglichkeiten für Anwendungen an der Schnittstelle von Elektronik, Photonik und Quantentechnologie. Das Besondere: Alle vier Elemente stammen wie Silizium aus der vierten Hauptgruppe des Periodensystems. Das macht die Legierung kompatibel mit dem Standardverfahren der Chipindustrie, dem sogenannten CMOS-Prozess – ein entscheidender Vorteil.

„Mit der Kombination dieser vier Elemente haben wir ein lang verfolgtes Ziel erreicht: den ultimativen Halbleiter auf Basis der vierten Hauptgruppe“, erklärt Dr. Dan Buca vom Forschungszentrum Jülich. Mit der neuen Legierung lassen sich Eigenschaften so feinjustieren, dass Bauelemente möglich werden, die mit reinem Silizium nicht realisierbar wären: etwa für optische Komponenten oder in Quantenschaltungen. Die Strukturen lassen sich direkt bei der Herstellung auf dem Chip erzeugen. Die Chemie setzt dabei klare Grenzen: Nur Elemente, die zur selben Hauptgruppe gehören wie Silizium, fügen sich nahtlos ins Kristallgitter auf dem Wafer ein. Elemente anderer Gruppen stören das empfindliche Gefüge. Das zugrunde liegende Verfahren heißt Epitaxie, ein Schlüsselprozess der Halbleitertechnologie, bei dem dünne Schichten atomgenau auf einem Substrat abgeschieden werden.

Verzahnung von Optik und Elektronik

Schon zuvor war es Forscherinnen und Forscher um Dan Buca gelungen, Silizium, Germanium und Zinn zu kombinieren und daraus Transistoren, Photodetektoren, Laser und LEDs zu entwickeln – oder thermoelektrische Materialien. Die Hinzunahme von Kohlenstoff erweitert nun die Möglichkeiten, die Bandlücke – entscheidend für das elektronische und photonische Verhalten – gezielt einzustellen.

„Ein Beispiel ist ein Laser, der auch bei Raumtemperatur funktioniert. Viele optischen Anwendungen aus der Silizium-Gruppe stehen noch ganz am Anfang“, erläutert Dan Buca. „Auch für die Entwicklung von geeigneten Thermoelektrika ergeben sich neue Möglichkeiten, um Wärme in Wearables und Computerchips in elektrische Energie umzuwandeln.“

Gegensätze im Gitter vereint

Die Herstellung der neuen Verbindung galt lange als kaum machbar. Kohlenstoff ist winzig, Zinn groß und ihre Bindungskräfte sind sehr verschieden. Erst durch präzise Einstellung der Herstellungsprozesse gelang es, diese Gegensätze zu vereinen – mit einer industriellen CVD-Anlage von AIXTRON. Keine Spezialapparatur, sondern ein Gerät, wie es auch in der Chipproduktion genutzt wird.

Das Ergebnis: ein Material von hoher Qualität, gleichmäßig zusammengesetzt. Daraus entstand auch erstmals eine Leuchtdiode, die auf sogenannten Quantentopfstrukturen aus den vier Elementen aufbaut – ein wichtiger Schritt in Richtung neuer optoelektronischer Bauelemente.

„Das Material bietet eine bislang einzigartige Kombination aus abstimmbaren optischen Eigenschaften und Silizium-Kompatibilität“, sagt Prof. Dr. Giovanni Capellini vom IHP, der seit über 10 Jahren mit Dan Buca zusammenarbeitet, um die Anwendungspotenziale neuer Gruppe-IV-Halbleiter zu erschließen. „Damit schaffen wir die Grundlage für skalierbare photonische, thermoelektrische und quantentechnische Bauelemente.“

Bildergalerie

  • Dr. Dan Buca (links) und Andreas Tiedemann (rechts) an der CVD-Anlage von AIXTRON, mit der der Wafer beschichtet wurde.

    Dr. Dan Buca (links) und Andreas Tiedemann (rechts) an der CVD-Anlage von AIXTRON, mit der der Wafer beschichtet wurde.

    Bild: Forschungszentrum Jülich / Jenö Gellinek

  • Der beschichtete Wafer ist optisch nicht von einem herkömmlichen zu unterscheiden.

    Der beschichtete Wafer ist optisch nicht von einem herkömmlichen zu unterscheiden.

    Bild: Forschungszentrum Jülich / Jenö Gellinek

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